[1]何季麟,潘倫桃,鄭愛國,等.鉭粉的低溫摻氮及氮在鉭中的分布[J].中國材料進展,2010,(2):050-52.
HE Jilin,PAN Luntao,ZHENG Aiguo,et al.Method of Tantalum Powder NitrogenDoping and the Distribution of Nitrogen in Tantalum[J].MATERIALS CHINA,2010,(2):050-52.
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鉭粉的低溫摻氮及氮在鉭中的分布
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中國材料進展[ISSN:1674-3962/CN:61-1473/TG]
- 卷:
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- 期數(shù):
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2010年第2期
- 頁碼:
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050-52
- 欄目:
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研究報告
- 出版日期:
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2010-04-25
文章信息/Info
- Title:
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Method of Tantalum Powder NitrogenDoping and the Distribution of Nitrogen in Tantalum
- 作者:
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何季麟1; 潘倫桃1; 鄭愛國1; 王向東2
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（1中色有色集團公司，寧夏 石嘴山 75300）
（2北京有色金屬研究院，北京 100038）
- Author(s):
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HE Jilin1; PAN Luntao1; ZHENG Aiguo1; WANG Xiangdong2
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](1National Special Metal Materials Engineering Research Center of Tantalum and Niobium,Shizuishan 753000,China)
(2Beijing General Research Institute for Nonferrous Metals,Beijing 100088,China)
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- 關鍵詞:
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鉭粉; 摻氮; 氮在鉭中的分布
- 文獻標志碼:
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A
- 摘要:
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敘述了鉭粉在鎂還原脫氧后引入氮氣對鉭粉進行摻氮，在200 ℃以下01 MPa以上，保溫時間大于2 h時，得到的鉭粉粒子間含氮差別率在20%以下。用俄歇電子能譜儀對滲氮的鉭表面進行元素分布研究，發(fā)現(xiàn)氮在鉭中分布是不均勻的，對于每個粒子也是外表面氮濃度大于鉭內(nèi)部的氮濃度。
備注/Memo
- 備注/Memo:
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收稿日期：2009-10-19
通信作者：何季麟，男，1945年生，中國工程院院士
更新日期/Last Update:
2010-05-27